PCや携帯電話をはじめ家電製品、さらには自動車にいたるまで身の回りの多種多様な用途に電子部品が幅広く使われるようになりました。半導体集積回路はこうした電子部品の中核となる部材です。さまざまな機能の電子部品が生み出される一方で、こうした電子部品は高機能化、省電力化、小型化、そして低コスト化に向けて絶え間ない進歩を重ねてきました。この進歩の鍵をにぎっているのが半導体回路の微細化と、それによって実現する半導体素子の高集積化です。

マイクロフォトレジストは微細な回路パターンの製造に不可欠な感光性ポリマー製品です。光を使って回路パターンをシリコンウェーハ上に焼き付けるマイクロリソグラフィ工程に使われます。この微細な回路パターンを作るためのかなめとなる工程で、当社のマイクロフォトレジストはこれを担う製品として多くの半導体メーカで使われています。またより高い解像力をめざして露光光源の波長が短くなるのに合わせ、g線、i線、KrF、ArF露光用と製品のラインアップも拡大してきました。

現在では100ナノメートル以下の回路パターンの量産が可能な時代に入りました。直径が0.1mm以下といわれる頭髪の太さの1／1000、いやそれ以下の世界です。回路パターンの微細化に向けては、今後も90ナノから65ナノ、そして45ナノ、さらには32ナノメートルの実現へと、技術の挑戦が続きます。露光光源の短波長化は当面ArF（193nm）が限界と言われ、光の波長よりずっと微小なパターンの形成に挑むことになります。