半導体製品はフォトリソグラフィ技術の進歩により高集積度化を重ねることで高性能化が進んでおります。その進歩を支えるものの一つがフォトマスクです。現在では要求される精度も増し、フォトマスクの製造にも難易度の高い技術が必要となりました。富士フイルムはフォトマスク専用のレジストを開発し、高度なフォトマスク製造に貢献しております。
フォトマスク用レジストは、フォトマスク基板特有の要求性能に合わせた広い温度依存性、面内均一性、安定性を有しており、デファクトスタンダードとして世界中のユーザーに使用されております。