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フォトレジスト製品

最先端の技術で極微小世界を実現。

微細な回路パターンの製造に不可欠なマイクロフォトレジスト。 この感光性ポリマー製品は、光を使って回路パターンをシリコンウェハ上焼き付けるマイクロリソグラフィ工程に使われます。富士フイルムは更なる回路の微細化に向け、極微小世界の実現に挑戦し続けています。

当社のマイクロフォトレジストは高性能と安定した品質で、45nm、32nmの微細な回路パターンを製造するため、世界の半導体メーカーで使用されています。

マイクロフォトレジストは微細な回路パターンの製造に不可欠な感光性ポリマー製品です。光を使って回路パターンをシリコンウェーハ上に焼き付けるマイクロリソグラフィ工程に使われます。この微細な回路パターンを作るためのかなめとなる工程で、当社のマイクロフォトレジストはこれを担う製品として多くの半導体メーカで使われています。またより高い解像力をめざして露光光源の波長が短くなるのに合わせ、g線、i線、KrF、ArF露光用、ArF液浸用と製品のラインアップも拡大してきました。

現在では100nm以下の回路パターンの量産が可能な時代に入りました。直径が0.1mm以下といわれる頭髪の太さの1/1000、いやそれ以下の世界です。回路パターンの微細化に向けては、今後も90nmから65nm、そして45nm、さらには20nm以下の実現へと、技術の挑戦が続きます。露光光源の短波長化としてEUV(13nm)への挑戦を開始しています。

フォトレジストパターン断面図
製品一覧
ポジ型フォトレジスト(g線、i線、KrF、ArF、ArF液浸)
ネガ型フォトレジスト
現像液
剥離液
保護膜用樹脂
剥離液
リンス
シンナー
資料請求・お問い合わせについて
製品の資料請求・お問い合わせは、富士フイルム エレクトロニクスマテリアルズ(株)で承っております。Webより問い合わせフォームをご利用ください。

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